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关于超纯水设备去除杂质的工艺介绍
来源:www.fzyoupu.com 发布时间:2021/11/8 11:43:40
       总所周知,水中含有许多杂质,只有去除水中的杂质,才能用于规定水纯度高的领域。福州超纯水设备可以去除水中的各种杂质。超纯水系统解决后的水能满足半导体行业的要求。实验室等标准化自来水可以根据超纯水设备去除杂质。

一、溶解无机盐

       有钠、钙、镁等酸盐,溶解水产生共价键。当含有正离子的水清洗半导体元件时,杂质会扩散到集成电路芯片表面,导致短路故障。以前用纯净水去除水中的碳酸盐,现在是三重纯净水。水的电阻率只有3兆欧-cm,水中仍然含有超过01ppm的NaCl。ro反渗透去正离子非常有效,所以阴阳离子交换树脂分离应用,方便再造,用于离子交换的后阶段,具有守门人的功效。这种水可以达到18兆欧厘米(25℃)。

福州超纯水设备



二、溶解有机物
       有工业废弃物,洗涤剂,可降解商品和微生物菌类化合物,可采用活性炭过滤法去除。碳床应该放在离子交换树脂之前,因为活性炭本身会有杂质。必须注意的是,进入树脂床的水首先要去除有机物,因为阴阳离子交换树脂很容易被有机物(如腐植酸)环境污染。ro反渗透可以去除相对分子质量过300的有机物,相对分子质量低于300的有机物可以去除90%。

三、颗粒物
       在许多地区,制造碳床、树脂床、深层过滤等机械设备非常容易。尽管采用了一些方法来实现高电阻,但细颗粒并没有被合理去除。这会半导体器件中出现针孔、短路、开路、内部击穿和光刻胶脱落等缺陷。为了更好地去除细颗粒,只使用活性炭过滤。一般选用直径为0.45μm的微孔滤膜作为规范。选择直径为0.22μm的微孔滤膜μm的微孔滤膜去除胶体溶液铁、胶体溶液硅和小细菌,超纯水设备还可以去除小颗粒。

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